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- [发明专利]空间光调制器及其制备方法-CN202111361844.5有效
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田立飞;李智勇
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中国科学院半导体研究所
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2021-11-17
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2022-11-08
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G02F1/1343
- 本公开公开了一种空间光调制器，包括：绝缘调制层(300)；导电调制层(400)，设置于绝缘调制层(300)上，并包括多个调制电极；电极层(200)，设置于绝缘调制层(300)下，并包括多个与多个调制电极配合的配合电极；其中，绝缘调制层(300)、导电调制层(400)的调制电极和电极层(200)的配合电极形成多个像素单元，通过改变施加在每个像素单元的调制电极和配合电极的电压，使得像素单元所在的导电调制层(400)的载流子积累到导电调制层(400)和绝缘调制层(300)的界面处，从而调制像素单元所在的导电调制层(400)的光学性质，从而实现像素单元的光调制功能，提高调制速度。
- 空间调制器及其制备方法
- [发明专利]空间光调制器及其制备方法-CN202310761342.4在审
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田立飞;李智勇
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中国科学院半导体研究所
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2023-06-26
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2023-10-20
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G02F1/015
- 本公开提供一种空间光调制器及其制备方法，空间光调制器包括：绝缘调制层；上导电调制层，设置于绝缘调制层表面，包括多个调制电极；下导电调制层，设置于上导电调制层上且与绝缘调制层所在表面相对的表面，包括多个与多个调制电极配合的配合电极；一个调制电极和与该调制电极配合的一个配合电极形成一个像素单元，像素单元被配置为通过改变施加在像素单元的调制电极与配合电极之间的电压，控制上导电调制层上像素单元所在区域的载流子积累到上导电调制层和绝缘调制层的界面处，以及下导电调制层上像素单元所在区域的载流子积累到下导电调制层和绝缘调制层的界面处。该空间光调制器能够实现像素单元的光调制功能，提高调制速度。
- 空间调制器及其制备方法
- [发明专利]空间光调制器及其制备方法-CN202011499623.X有效
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田立飞;李智勇
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中国科学院半导体研究所
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2020-12-17
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2022-12-23
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G02F1/01
- 本发明公开了一种空间光调制器，包括：反射层，用于对入射波进行反射；调制层，设置在所述反射层上，所述调制层的光学性质可调节，包括像素调制单元；电极层，设置在所述调制层上，包括调制电极，所述调制电极设置在所述像素调制单元上，所述调制电极通过改变施加在所述像素调制单元的电压完成改变调制层的光学性质，具有稳定性高，鲁棒性高，使用寿命长和调制速度高的特点。本发明还公开了一种空间光调制器的制备方法，通过采用调制电极通过改变像素调制单元的电压完成改变调制层的光学性质，进而实现对光波的调制，相较于液晶空间光调制器，具有加工步骤少、加工难度低、成品率高，生产成本低的有益效果
- 空间调制器及其制备方法
- [发明专利]光调制器和光调制器阵列-CN202210994237.0在审
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宫野广基;相马豪;福井太一郎;种村拓夫;野本佳朗
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国立大学法人东京大学;浜松光子学株式会社
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2022-08-18
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2023-04-07
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G02F1/03
- 本发明提供光调制器和光调制器阵列，其中，光调制器(1A)包括：基体层(10)；在基体层(10)上形成的金属反射层(20)；在反射层(20)上形成的非线性光学晶体的调制层(25)；和导电图案层(30)，其包含在第1方向上周期性地排列并且按第2方向分别延伸的多个图案部(31)，且在调制层(25)上形成。调制层(25)通过借由在反射层(20)与导电图案层(30)之间的电压的施加使得折射率发生变化而使对于对象光的反射率变化。光调制器(1A)将从调制层(25)的上表面侧入射，通过调制层(25)、在反射层(20)反射后的对象光，作为通过反射率的变化调制了强度的调制光向外部出射。由此，能够实现能够高速地进行对象光的强度的调制并且在宽的波长区域使其适当地动作的光调制器。
- 调制器阵列
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